![2014122694911.jpg](https://nakayamadental.com/blog/upload-images/2014122694911.jpg)
今回、左上4,6相当部、および右上6,4相当部のインプラント上にブリッジを装着するため、精密印象を行うことになりました。
各インプラントのプラットフォームにはユニアバットメントが装着されているのですが、左上4相当部のもの(高さ2mm)は、いささか高さが短すぎて、粘膜貫通部の深い部位にアバットメントのトップが位置しています。
このままでは補綴物のマージンが歯肉縁下の深いレベルに設定されるので、将来、インプラント周囲炎が引き起こされることが懸念されます。
![2014122694929.jpg](https://nakayamadental.com/blog/upload-images/2014122694929.jpg)
そこで、この部のユニアバットメントを高さ2mmのものから高さ4mmに変更しました。
![2014122694946.jpg](https://nakayamadental.com/blog/upload-images/2014122694946.jpg)
変更後、ユニアバットメントのショルダー部は歯肉縁下の浅いレベルに位置するようになり、ペリオ的見地から、良い環境になったと思います。
![201412269500.jpg](https://nakayamadental.com/blog/upload-images/201412269500.jpg)
ユニアバットメント用ピックアップコーピングを接続した後、精密印象を採る直前に撮影したデンタルXPです。
幸いなことにまだマージナルボーンロスは見られていません(プロビで12カ月間、経過観察をしていました)。
![2014122695017.jpg](https://nakayamadental.com/blog/upload-images/2014122695017.jpg)
右上6,4もデンタルXPを撮影しましたが、同様にマージナルボーンロスが見られません。
![2014122695034.jpg](https://nakayamadental.com/blog/upload-images/2014122695034.jpg)
この様に採得されたシリコン印象を、このままラボへ搬送します。